[내외일보] 김미라 기자 = 삼성전자가 3D V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인을 건설한다.

삼성전자는 오늘 28일 오전 중국 산시성 시안시에서 후허핑 산시성 성위서기, 먀오웨이 공신부 부장, 류궈중 산시성 성장, 노영민 주중 한국대사, 이강국 주시안 총영사, 삼성전자 대표이사 김기남 사장 등이 참석한 가운데‘삼성 중국 반도체 메모리 제2 라인 기공식’을 실시했다.

삼성전자는 지난 2017년 8월 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며 향후 3년간 총 70억 불을 투자하기로 했으며, 중국 시안에 반도체 2기 라인을 구축해 낸드플래시를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응 하겠다는 계획이다.

김기남 사장은 기념사를 통해 "시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께, 차별화된 솔루션을 고객에게 제공하여 글로벌 IT 시장 성장에 지속 기여 하겠다"고 말했다.

특히, 이번 2기 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중되어 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고, 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 기대하고 있다.
 
류궈중 산시성 성장은 기공식 축사를 통해 "삼성 프로젝트 2기 착공을 축하한다"며 "산시성은 앞으로도 삼성과 그 협력사들의 발전을 지원하며 협력관계를 강화할 것"이라고 답했다.